bugün

çin halk cumhuriyeti

Çin'in ASML'ye alternatifi olan Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), 248 nm dalga boylarını birleştiren kripton florür lazerleri (Krf) kullanan yerli litografi makineleri inşa ediyor. Şu anda kullanılan DUV proseslerinde 193 nm dalga boyuna sahip argon florür lazerler (Arf) kullanılmaktadır. Bu litografi makinelerinin mevcut kapasitesi 28 nm'ye kadar çip üretmekle sınırlı olsa da, bu durum Çin'in yerli litografi teknolojisinde merdiveni tırmanma olasılığını artırıyor. ASML sıfırdan Ar-Ge yapmak zorundayken Çin, geç kalma avantajından yararlanarak yıllar içinde ileri litografi tekniğine ulaşabilir. Gelişmiş EUV tekniklerini kendi başına geliştirmek için Arf lazerlerini ve daldırmayı kullanmayı deneyecek.